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本发明提供新的光催化材料生产设备和光催化材料生产方法，所述设备和方法能够通过在高场等离子体中，在高氧化性、高浓度臭氧介质状态下生产大量高品质光催化材料，而不是采用传统的干沉积方法通过PVD和CVD系统产生光催化材料。在依据本发明的光催化材料生产方法和光催化材料生产设备中，通过放电间隙中的电介质材料提供一对相对的电极，向放电间隙中提供主要含氧气的气体，在两☆个电极之间施加AC电压，在放电间隙中产生电介质阻挡放电(无声放电◆或蠕缓放电)。因此，产生含臭氧气体的氧气，通过电介质阻挡放电将金属或金属化合物改性为光催化材料。

申请号­	CN200580049102
申请日	2005.07.15
公开（公告）号­	CN101142022A
公开（公告）日	2008.03.12
IPC分类号	B01J35/02; C01B13/11; B01J37/34; B01J19/08
申请（专利权）人	东芝三菱电机产业系统株式会社;
发明人	田畑要一郎;西津徹哉;沖原雄二郎;植田良平;
优先权号
优先权日
申请人地址	日本东京;
CPC分类号