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采用在多孔载体上预ξ　投分子筛晶种,再用水热晶化的二次生长的成膜方法合成X型分子筛膜.通过三次晶化操作,SEM显示多孔载体上负①载生长的分子筛膜厚约15 μm.分子筛膜的He和N2的渗透率下降为载体渗透率的1%以下,纯三丁胺◆与全氟三丁胺的渗透率之比为21(350℃).但表征结果显示,膜层内存在缺陷.本研究采用了化学沉积与积炭处理相结合的二步修饰法来消除缺陷.结果表明,经二步修饰卐后,X型分子』筛膜用三丁胺和全氟三丁胺的蒸气测试其渗∑　透率,发现渗透侧全氟三丁胺几乎收集不到,比未修饰的膜的☆渗透率有很大提高,说明修饰对X型分子〖筛膜的非沸石孔道的消除很明显.

    doi：
    10.3969/j.issn.1005-2399.2001.09.012
    关键词：
    分子筛 膜 制备 沉积 积炭 渗透性
    作者：
    许中强 陈庆龄 卢冠忠 马忆华
    作者单位：
    上海石油化工研究院 华ω　东理工大学工业催化研究所 Chemical Engineering Departent Worcester Polytechnic Institute
    刊名：
    石油炼制与化工
    Journal：
    PETROLEUM PROCESSING AND PETROCHEMICALS
    年，卷(期)：
    2001, 32(9)
    所属期刊栏目：
    基础研究
    分类号：
    TE62
    在线出版日○期：
    2004年01月07日
    页数：
    6
    页码：
    43-48